之前大家都说，制造7nm以下的芯片，必须要用到EUV光刻机。

而全球能够生产EUV光刻机的厂商就只有一家，那就是荷兰的ASML，所以EUV光刻机就是一个卖方市场，并不是买方市场。

卖给谁，不卖给谁，卖多少钱，一定程度上而言，都是ASML说了算，当然还有美国的命令ASML也必须听，ASML唯美国命令是从，除此之外就自己说了算了。

为此，众多的厂商都在努力，希望能够颠覆ASML的EUV光刻机，因为只有颠覆了他，才能够掌握整个芯片产业链至高无上的地位。

而日本的佳能，似乎有了一定的突破，因为它基于NIL纳米压印技术，推出了先进的纳米压印机，这种技术，可以不用EUV光刻机，也能制造5nm的芯片。

从事实上来讲，佳能的NIL纳米压印机，其实是颠覆了EUV光刻机的，因为也能造5nm芯片了啊。

但是大家也发现，佳能的这种纳米压印机似乎没什么订单，全球的芯片厂商，好像都不找他购买NIL，还是疯抢阿斯麦的EUV光刻机，这是什么原因呢？

其实最大的问题还是因为NIL纳米压印技术，根本就颠覆不了EUV技术。

EUV的原理就像是投影一下，先制造一张光掩膜，再用光线穿过光掩膜，将上面的电路图，投射到硅晶圆上，每制造一张光掩膜，可以投影几万次，制作出几万块硅晶圆片，精准度，效率高。

并且光摸膜板，可以做大一点，利用光线的原理，再来缩小到硅晶圆上，相对的也没那么复杂。

但NIL不一样，相当于盖章，先要雕刻一个母版，再用母版来盖到硅晶圆上，先是雕一个1：1的母版就难，然后再用这个母版去盖另外的硅晶圆片，盖50次可能就得报废，又要重新雕刻一个母版。

这效率，想一想都不可能很高，按照专业人士的说法，一台NIL的效率，不到一台EUV效率的几十分之一，根本没法比的。

也许成本上，NIL看起来要低一些，但是在这个效率面前，不值一提。

另外，NIL也要全套的生态设备，现有的芯片厂，都是光刻机那个生态，为了NIL要换一个遍，这个成本就难了。

所以啊，至少在目前NIL根本就颠覆不了EUV，所以明明佳能说自己的NIL可以制造5nm芯片，成熟的芯片厂商们，也不会买它的，大家用EUV更可靠。