EUV光刻机有多难造？EUV光刻机有三大核心模块，中国突破关键一环，剩下的难题在哪？有人调侃，这要“手搓”出顶级镜面，达到原子级别！ EUV光刻机堪称工业界的“珠穆朗玛峰”，全球就ASML能造，中国的突破到底到哪一步了？ 这设备难就难在三大核心模块，看看我们达到了什么水平。 首先是“心脏”光源发生器，极紫外光不是自然有的，得把高纯度硒变成喷雾电浆，用雷达波激发，而且一万多瓦输入才出不到100瓦光，比充电宝还“费电”！好消息是中国已经搞定了核心原理和工程实现，这步从0到1的跨越，直接站稳了脚跟。 然后是最卡脖子的“神经中枢”光学控制系统，核心是原子级反射镜，平面精度有多夸张？相当于地球那么大的面，高低差不能超一根头发丝！就是说，这个镜面要能原子级别，把表面“搓”到一排排原子排列。现在全球只有德国蔡司能造，我们还在攻关，这是目前最大的拦路虎。 最后是“手脚”精准对位系统。得把晶片控制在纳米级精度曝光，还好我们有基础！之前DUV光刻机的重复曝光技术已经能搞定7nm对位，这部分不用太担心，我们已有技术积累。 中国EUV现在是“一破一攻一稳”：光源突破了，光学系统还在死磕，对位系统稳步推进。但要注意，实验室原型机到能量产的设备，还有量产验证、供应链整合这些问题。 不过能在这么难的领域摸到门槛，已经很牛了！等光学系统搞定，全产业链跟上，我们的自主EUV说不定就能加速落地，到时候半导体格局又要变了。