快讯！荷兰政府突然宣布了。在海牙发布对中国新的出口管制细则，进一步收紧浸润式DUV光刻机出口许可，ASML的NXT：2050i等机型被纳入限制清单，未获个案批准不得交付，直接压缩中国晶圆厂的扩产与维保窗口。 荷兰政府在2023年3月8日公布了半导体制造设备的出口管制新规，这项政策针对先进芯片制造技术，包括最先进的沉浸式深紫外光刻工具。ASML作为全球领先的供应商，其产品直接受影响，需要申请出口许可证才能向特定国家发货。政策旨在控制可能用于军事应用的设备出口，荷兰强调这是基于国家安全考虑。ASML随后表示，将遵守这些规定，并申请相关许可。 新规从2023年9月1日起生效，涵盖沉浸式DUV系统，但不包括所有DUV工具，仅针对最先进型号。荷兰贸易部长表示，这为受影响企业提供了适应时间。中国作为ASML的重要市场，占其收入的相当比例，此举直接触及供应链稳定性。全球半导体行业观察者指出，这种管制与美国2023年出口限制相呼应，形成多国协作格局。中国商务部对此表达不满，认为这干扰正常贸易。 2024年1月1日，荷兰政府部分撤销了ASML的出口许可证，具体涉及NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统。这些系统用于生产7nm级芯片，撤销影响中国少数客户。ASML在声明中称，此举源于美国2023年10月17日更新的出口规则，这些规则限制中高端DUV沉浸式光刻系统向中国先进生产设施出口。荷兰的决定与美国政策保持一致，避免了管辖权冲突。 ASML强调，这不会对其2023年财务展望产生重大影响，但2024年出口中国DUV设备需新许可。公司发言人表示，2024年不太可能获得NXT:2000i及后续版本向中国客户的出口许可。中国外交部敦促荷兰尊重市场原则，避免将经贸问题政治化。半导体分析师认为，这加剧了中国芯片制造商的采购难度，推动本土设备研发加速。全球供应链因此面临调整，跨国企业需评估风险。 荷兰在2024年9月6日扩展了出口许可要求，涵盖ASML的Twinscan NXT:1970i和1980i系统。这些型号用于先进半导体制造，荷兰政府称此举与美国2023年限制一致。政策要求ASML为这些DUV沉浸式光刻设备申请荷兰许可证，而非美国许可，增强荷兰对本土技术的控制。ASML需为已售受控设备的维修、备件和软件更新申请许可。 中国商务部对此表示强烈不满，认为这扩大了管制范围，损害中荷经贸合作。荷兰外贸部长解释，这是为了填补现有框架漏洞，包括服务支持。行业报告显示，中国芯片厂依赖ASML设备维护生产线效率，此限制可能延长交货周期，提高成本。全球半导体市场因此波动，投资者关注ASML股价表现。专家分析，这反映出地缘政治对科技供应链的影响日益加深，企业需多元化采购策略。 ASML的NXT:2050i系统规格包括≤38nm分辨率，每小时处理295片晶圆，支持逻辑和内存生产。NXT:2100i在覆盖层精度上提升10%，匹配机覆盖层提升13%。这些机器在多图案化下可用于5nm级工艺，但出口中国受限。荷兰2024年1月的许可证撤销直接针对这些型号，影响中国客户交付。ASML确认，受美国规则影响，中端DUV系统向中国先进设施出口受限。 公司2024年预计中国业务占比下降，但整体营收目标不变。中国半导体企业转向本土替代，如上海微电子的DUV设备虽有差距，但已进入小规模量产。全球报告显示，中国芯片采购占ASML收入近30%，管制导致订单转移。荷兰半导体就业岗位面临压力，企业需调整生产计划。国际贸易专家指出，这种管制可能刺激中国自主创新，改变长期市场格局。 2024年12月2日，美国更新先进计算和半导体制造设备规则，立即生效，但部分变更延至12月31日。规则增加对芯片制造技术的限制，新增中国工厂地点受限。荷兰若采用类似评估，可能影响DUV沉浸式光刻系统向这些地点的出口。 ASML预计2024年无直接重大影响，但2025年净销售额在300亿至350亿欧元，中国业务占比约20%。这比此前高点下降，反映管制效应。中国芯片产业加速国产化，减少对进口依赖。荷兰政府强调，这是维护国家安全，而非针对特定国家。半导体供应链因此重塑，跨国公司开发双保险策略，避免单一来源风险。经济学家分析，这类管制虽短期扰动市场，但长期推动技术分散化。