又出 2 名内鬼，损失巨大！ 中国半导体行业刚从华为海思商业秘密被盗案的震荡中缓过劲，又一起离谱的技术窃密事件浮出水面。 这次中招的是北京屹唐半导体，一家刚在 2025 年 7 月登陆科创板的行业骨干企业。 事件的主角是两名曾在屹唐半导体全资子公司 MTI 任职的核心研发人员。这两人手握公司压箱底的技术，却在离职后没有丝毫犹豫，直接跳槽到了美国半导体巨头应用材料公司。 更让人无法接受的是，他们带走的不只是自己的工作经验，还有老东家耗费大量资源研发的 “等离子体源” 核心技术。 这两人最出格的操作，是把这份属于屹唐半导体的技术成果，当成了自己跳槽的 “投名状”。 他们转头就以个人名义向中国国家知识产权局提交了发明专利申请，还堂而皇之地签下了自己的名字。 这种行为不仅违背了职业操守，更直接触碰了法律红线 —— 要知道，他们在 MTI 公司任职期间，都明确签署过保密协议，对这些核心技术负有严格的保密义务。 可能有人不清楚，这份被窃取的 “等离子体源” 技术到底有多重要。在半导体制造领域，等离子体源尤其是远程等离子体源（RPS），堪称先进制程的 “关键先生”。 随着芯片技术节点向 5 纳米乃至更小尺寸推进，晶圆表面的微小污染或损伤都可能导致整个器件失效。 传统清洗方式要么清洁不彻底，要么容易损伤精密结构，而屹唐的这项技术能通过非接触式处理，在不伤害晶圆的前提下，高效去除光刻胶残留和污染物。 从实际应用效果来看，这项技术的价值更是一目了然。某存储芯片制造商引入同类技术后，深孔清洗工序的良品率从 87% 飙升至 96%，单晶圆处理成本直接降低 30%。 对于屹唐半导体来说，这不仅是市场竞争的核心优势，更是支撑企业发展的技术根基。 两名内鬼的行为，给屹唐半导体带来的损失难以估量。应用材料公司拿到这项技术后，已经开始在中国境内推广销售相关产品，直接抢占屹唐的市场份额。 更严重的是，核心技术的泄露可能让公司后续的研发布局陷入被动，前期投入的研发成本也打了水漂。 面对这种赤裸裸的侵权行为，屹唐半导体没有选择妥协，而是果断拿起法律武器维权，正式向北京知识产权法院提起诉讼。 根据屹唐半导体发布的公告，公司提出了六项明确的诉讼请求。除了要求应用材料公司停止获取、披露和使用该技术秘密，销毁相关技术资料和侵权产品外，还要求确认涉案专利申请权归屹唐所有，并由对方承担专利申请权变更的全部费用。 这起事件并非个例，近年来半导体行业的 “挖人即窃密” 现象屡禁不止。此前华为海思就遭遇过类似情况，14 名前员工离职后组建公司，窃取 40 个核心技术点，最终被法院判处总计 1350 万元罚金，首犯更是获刑六年。 这些案例都在警示行业，技术人才流动背后的知识产权保护，已经成为亟待解决的难题。 目前这起案件已经被法院受理，屹唐半导体在公告中表示，这次诉讼是为了保护自身合法权益和公平的市场竞争环境，不会对公司正常生产经营产生重大不利影响。 但无论案件最终结果如何，它都给所有科技企业敲响了警钟。 在人才流动日益频繁的今天，企业不仅要完善保密制度，更要加强技术成果的产权保护和风险防控。 只有守住了知识产权的底线，中国半导体行业才能在自主可控的道路上走得更稳、更远。