快讯！​ 荷兰又动光刻机筹码​ ​ 荷兰突然释放关键信号：手握光刻机核心环节，阿斯麦几乎垄断高端型号供应，全球想突破更小芯片节点，都得看其脸色。全球顶尖晶圆厂的 7 纳米、5 纳米产线，全靠阿斯麦 EUV 系统推进；而国内自 2022 年起，只能靠 DUV 多重曝光硬挤产能，TechInsights 分析显示，这种替代流程更复杂，核心设备主动权始终不在我们手中。​ ​ 更棘手的是交付周期被锁死：一台高端光刻机从出厂到调试要近两年，国内新线扩产常卡在设备到货环节，而美日韩厂商能优先拿到机台，投产节奏完全被别人掌控。想绕开阿斯麦？从零搭建新路径代价极高 —— 多次曝光虽能提分辨率，却要承担良率低、成本高的压力，起步就落后一两代。​ ​ 荷兰还通过出口许可控节奏：2023 年起收紧部分高端机型许可，2024 年阿斯麦也提及许可变动，表面合规，实则握牢扩产时间轴。不过这并非单向压制，阿斯麦财报显示中国市场占比上升，其核心部件也依赖外部供给，双方都不愿彻底断档，形成可控紧张。​ ​ 对我们而言，破局关键在补装备短板：哪怕先稳成熟节点产能，也要逐步拿回核心环节主动权。只要光刻机受制于人，投产节奏就难自主。这场博弈不会速决，但把基础打牢，别人的 “遥控器” 终会失灵！​ ​ 大家觉得，我们该优先突破设备研发，还是先优化现有工艺？