中国光刻胶领域取得新突破，这消息太让人振奋了！光刻技术可是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的关键。 北大彭海琳教授团队把冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构等。就像合成了一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，解决了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的问题。还据此开发出能显著减少光刻缺陷的产业化方案，相关论文也刊发于《自然·通讯》。这突破意义非凡，为中国半导体行业发展注入强大动力。
中国光刻胶领域取得新突破，这消息太让人振奋了！光刻技术可是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的关键。 北大彭海琳教授团队把冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构等。就像合成了一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，解决了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测的问题。还据此开发出能显著减少光刻缺陷的产业化方案，相关论文也刊发于《自然·通讯》。这突破意义非凡，为中国半导体行业发展注入强大动力。
