我国搞定光刻机，ASML紧张了？专家曝这大厂研制：华为生态系的主攻手 我国近年受美国科技制裁影响，光刻设备受进口禁令限制，能否自制所需要的高阶晶片受到全球关注。对此，海外网络媒体上报道，我国已有一座较先进的DUV原型机已交付上海晶圆厂测试，该原型机由上海这公司研发制造，目前仍在调试完善中。 还报道称：宇量升科技有限公司为半导体设备制造商深圳新凯来的子公司，位于华为半导体生态系中，主要研发半导体设备制造，尤其主攻曝光系统就是光刻机。美国制裁我国的主要手段为限制先进晶片的出口，禁止辉达H100、H200等AI晶片卖进中国。 最近，深圳新凯来在中国国际半导体展览会上展示了蚀刻、沉积、离子注入、清洗等几乎所有半导体制程的所需的制造设备，唯独没有曝光设备。我国不止一个团队在自研自制曝光系统，并同时研发EUV（极紫外光光刻技术）和DUV（深紫外光光刻技术）。而对于我国在今年下半年将自主开发出EUV的传言，一些专家认为，制造EUV困难度较高，因此自研自制DUV的工作一定会先有所突破。 但目前几乎可以确定我国已有一座较先进的DUV原型机已交付上海某座晶圆厂测试，推测为中芯国际。深圳新凯来和上海宇量升的主营业务皆为研发半导体设备，外界所关心的光刻机，两者间应该存在分工关系。因此在上海的原型机其实并非远从深圳新凯来运至上海，而是上海本地的宇量升科技所研发制造，且早在今年初便已研发，近半年仍在调试完善中。 即使DUV深紫外光光刻机对荷兰光科设备公司ASML而言为成熟产品，我国早在美中科技战开打前便开始进口。川普1.0时代的2019年5月开始制裁华为以来，陆续将中国上百家公司增列于实体清单中，其中华为生态系内的知名公司几乎无一幸免。在被制裁前我国境内已有多达200座以上的ASML设备进入中国，主要为DUV。我国想复制DUV，从决定至今已有约5年时间，ASML总公司和全球分公司被挖角加入华为的在100人到200人之间，因此我国会先在DUV有所突破相当合理。 研发成功后仍存在光刻机的产量问题，目前ASML最先进的机台一个小时可以曝光100至200多片，但是我国早前刚开始研发出来时，光刻机产量为个位数。而目前正在上海调试的光刻机的原型机，起初光刻机产量一个小时也仅个位数。若未来宇量升科技推出可商品化的光刻机，可能是宇量升个别公司的一小步，中国DUV的一大步。
