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霍尔效应测试仪对不同掺杂氧化镓材料电特性测试应用

氧化镓(Ga₂O₃)作为新兴的宽带隙半导体材料,凭借其超高的击穿电场强度、优异的耐高温性能以及出色的紫外光响应特性,正成

氧化镓(Ga₂O₃)作为新兴的宽带隙半导体材料,凭借其超高的击穿电场强度、优异的耐高温性能以及出色的紫外光响应特性,正成为高功率电子器件、深紫外光电器件等领域的研发热点。精准测试其电学特性(如载流子浓度、迁移率、电阻率等),也是材料研究与器件优化的关键挑战之一。

上海大学研究团队通过霍尔效应测试,对不同Ta掺杂浓度的氧化镓薄膜进行了系统化测试。通过精准获取载流子浓度与迁移率数据,团队成功建立了掺杂浓度与电学性能的关联模型,为高性能氧化镓器件的设计与工艺优化提供了关键支撑!

针对薄膜材料的特殊需求,嘉仪通霍尔效应测试仪通过范德堡法,可快速、准确地测定以下核心参数:

✅ 电阻率——揭示材料导电性能;

✅ 霍尔系数——判断载流子类型(N/P型);

✅ 载流子浓度——评估掺杂效率;

✅ 迁移率——评估材料电荷传输能力;

✅ 方阻——为器件工艺优化提供依据;

无论是对轻掺杂还是重掺杂的Ga₂O₃,嘉仪通霍尔测试仪均能提供稳定、重复性高的测试结果,助力科研团队突破材料性能瓶颈。