荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。   要理解突破的难度，得先明白ASML的强大并非一日之功，它背后是一张覆盖全球的精密网络，德国的光学系统、美国的光源技术、全球数千家供应商的零部件，这台机器堪称"全球化之子"，任何一个国家想单独复制都难如登天。   这就引出了问题的核心，中国面临着一个艰难的"三重选择"，技术自主、全球合作、快速发展，在当前的国际环境下，似乎只能三选二，当"全球合作"这条路越走越窄，"技术自主"就成了不得不走的路。   面对EUV这座高山，中国人的应对显得相当务实。   一方面，你能看到"集中力量办大事"的影子，国家队牵头，民营企业协同，在光刻机这条漫长的产业链上寻找每一个可能的突破点。   有意思的是，不少初创公司选择从特定环节切入，就像先攻占一个个小山头，而不是直接冲击主峰，这种策略看似迂回，实则稳健。   另一方面，现实主义的智慧同样重要，在追逐EUV的同时，中国企业在深挖现有DUV光刻机的潜力。   通过"多重曝光"这类复杂工艺，用相对落后的设备挑战更精密的制程，这条路虽然辛苦，但至少保证了在过渡期内不掉队。   更深远的变化发生在基础领域，从光学元件到化学材料，从精密机械到控制软件，整个产业生态正在被重新梳理，这就像在下一盘大棋，每个落子都关乎长远。   当我们讨论中国能否造出EUV时，或许问题本身就值得商榷。   ASML的成功告诉我们，现代高科技是全球化合作的产物，中国现在的努力，最重要的或许不是能否复制出一台一模一样的机器，而是在这个被迫自主的过程中，能培育出怎样的产业生态和创新土壤。   这条路注定漫长，它需要容忍失败的勇气，需要吸引全球人才的胸怀，更需要超越任期周期的战略耐心，最终的胜负手，可能不在于我们在传统赛道上追得多快，而在于我们能否在下一个技术转折点时站在前沿。   说实话，最让我感兴趣的不是技术突破本身，而是这个过程正在改变中国科技的成长方式，从过去的"市场换技术"，到现在的"创新驱动技术"，这种转变的影响将远超光刻机这一个领域。   当前的困境，既是一次压力测试，也是一次难得的机遇，它逼着我们回答一个根本性问题，当外部技术来源不再稳定时，我们如何构建自主可持续的创新体系？这个问题的答案，或许比能否造出EUV更加重要。