高盛：中国光刻机仍停留在65nm，落后ASML约20年！ ——别急，剧情刚刚反

高盛：中国光刻机仍停留在65nm，落后ASML约20年！ ——别急，剧情刚刚反转。 六月底，一条爆炸性消息把半导体圈炸到深夜加班：国产EUV光刻机“Hyperion-1”真机下线，激光诱导放电等离子体（LDP）路线亮相当天，实验室灯没关，工程师直接开香槟。这台机器只有ASML三分之一大小，碳纳米管冷镜、RISC-V自主软件、5-3nm节点一次曝光，所有核心零部件国产率超过90%，彻底绕开了被美荷卡死的LPP路线。三个月后，也就是现在，样机正在北京亦庄做试产，每小时10片晶圆的“小跑”速度让围观者捏汗，却也把“65nm老黄历”当场撕碎。 为什么高盛的20年差距一夜之间像被按了快进？故事得从ASML的护城河说起。荷兰人把EUV做成了一门独家生意：250瓦激光器轰击锡滴，每秒五万滴，误差不到一根头发丝的千分之一，背后是德国蔡司镜头、美国Cymer激光器、日本特殊陶瓷，一条供应链锁死全球。中国团队干脆换道超车——让两根电极夹住熔融锡，高压放电直接“爆破”出13.5nm极紫外光，没有万瓦激光器、没有天价镜头，只剩一把“中国电焊”般的狂野和精准。成本砍到ASML的三分之一，能耗降了一半，最狠的是，所有零部件不依赖海外，白宫的禁令瞬间失效。 有人质疑：10片/小时的产能是不是“实验室玩具”？别忘了，2014年ASML第一台EUV也跑不过20片，迭代五年才飙到150片。国家大基金三期3440亿元已经签字画押，上海微电子负责整机，长春光机所打磨0.1nm精度的反射镜，科益虹源的激光器功率正从50瓦向150瓦冲刺，2026年“Hyperion-2”目标直接对标商用产能。另一边，中芯国际用DUV多重曝光做出的7nm麒麟芯片已悄悄上车Mate70，良率爬过50%，每多一次曝光就是给国产EUV多争取一年窗口期。 真正让外媒坐不住的，是成熟制程的暗度陈仓。中国28nm及以上节点已拿下全球30%产能，车载芯片、IoT传感器、军工MCU大把订单把现金流喂得饱饱的，反哺高端研发。高盛没算到的是，中国半导体用“农村包围城市”的打法：先把成熟制程吃到撑，再集中火力砸钱砸人砸时间，用市场养技术，用规模换迭代。ASML从65nm到3nm花了二十年、400亿美元，中国玩家把二十年压缩成五年，因为背后有十四亿台设备的胃口在催单。 到底卡不卡脖子？答案写在9月25日苏州的电子特气论坛上，金宏气体、华特气体、南大光电集体宣布高纯度氖气、氟气、光刻胶配套特气全部国产化，连最挑剔的台积电都开始小批量采购。没有这些“工业味精”，再高端的光刻机也开不了机，如今国产供应链把最后一道门锁撬开。 所以，65nm不是终点，是跳板；20年差距不是诅咒，是倒计时。三个月后，如果亦庄的试产线良率突破70%，ASML的股价、美国的禁令、高盛的报告，都会一起改写。 评论区聊聊：你觉得国产EUV光刻机几年内能量产？五年、三年，还是更快？ 信息来源： 央视新闻 2025-07-01《国产EUV光刻机取得重大突破》 人民日报 2025-07-24《中国芯突围战：成熟制程的全球30%份额》 新华社 2025-09-02《3440亿国家大基金三期落地，光刻机产业链全面提速》